航空发动机/燃机热物理技术平台

磁控溅射镀膜机

技术指标：极限真空5.2×10e-5Pa，由大气抽取40分钟后本底真空小于8×10e-4Pa
联系人：王茜;项效镕
联系方式：010-82543047，wangxi@iet.cn，xiangxiaorong@iet.cn

仪器简介

　　磁控溅射镀膜机基于物理沉积技术（PVD）用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系的制备，它可制备金属薄膜、氧化物薄膜、陶瓷薄膜和磁性薄膜等，主要用于纳米级薄膜传感器的研制开发，如瞬态薄膜热流计、高频薄膜热电偶等。靶位3个（直流强磁靶、直流磁靶、射频靶各1个）；靶尺寸4英寸，样品台有效镀膜区域Φ200，操作模式可手动/自动。